دوره 1، شماره 1 - ( 1380 )                   جلد 1 شماره 1 صفحات 11-23 | برگشت به فهرست نسخه ها

XML Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

قضاوی محمدرضا، مقصودی مهدی. سینتیک رسوب الکترولیتی نیکل از کمپلکس ان بوتیل آمین در حلال آروماتیک آنیسول – فنانترون - TBABF4. مهندسی مکانیک مدرس. 1380; 1 (1) :11-23

URL: http://journals.modares.ac.ir/article-15-8326-fa.html


1- دانشگاه تربیت مدرس
چکیده:   (4177 مشاهده)
سینتیک جوانه زنی و رشد رسوب فلزی از کمپلکس ان بوتیل آمین حاوی کلرید نیکل با الکترولیت تترابوتیل آمونیوم تترافلوئوروبرات حل شده در آنیسول حاوی 15 درصد مولی فنانترن بر صفحه های مسی و پلاتینی به شیوه ولتامتری چرخه ای، کرنو آمپرمتری و بیناب نگاری امپدانس الکتروشیمیایی مورد تحقیق قرار گرفت. نتایج به دست آمده نشانگر تبلور الکتروشیمیایی سه بعدی به شکل جوانه زنی لحظه ای همراه با رشد تحت کنترل نفوذ کریستالهای نیکل بود. بررسیها نشانگر برگشت ناپذیر بودن واکنش تشکیل رسوب با سرعت ثابت ویژه cm/sec 3-10×1.4- 1 برای کریستالیزاسیون فلز نیکل روی کاتد مسی و cm/sec 3-10×5.4- 1.8 برای کریستالیزاسیون فلز نیکل روی کاتد پلاتینی بود. ضریب نفوذ نیکل در محلول الکترولیت آروماتیک برای کریستالیزاسیون نیکل روی مس در محدوده cm2/sec 6-10×2.8- 2.2 و برای کریستالیزاسیون نیکل روی پلاتین در محدوده cm2/s 6-10×1.8- 1.2 بود. به نظر می رسد مقادیر نسبتا کوچک ضریب نفوذ و سرعت واکنش، متاثر از کمپلکس شدن یون نیکل محلول با لیگاندهای حجیم باشد.
واژه‌های کلیدی: ندارد
     

دریافت: ۱۳۸۹/۳/۲۵ | پذیرش: ۱۳۸۰/۹/۲۵ | انتشار: ۱۳۸۹/۳/۲۵

ارسال نظر درباره این مقاله : نام کاربری یا پست الکترونیک شما:
CAPTCHA