مفتول دولایه آلومینیوم با پوشش مسی بر اساس استاندارد ASTM B566 قابل استفاده در شبکه‌های مخابراتی و انتقال سیگنال است. میزان فشار بین لایه‌ای طی فرآیند کشش بر کیفیت اتصال دو ماده موثر است. نمونه مفتول دولایه با پوشش مس به ضخامت 0.45 میلیمتر با قطر 9.5 میلیمتر تولید شد. مفتول تولید شده تحت فرآیند کشش سیم با نسبت کاهش سطح مقطع6.2% قرارگرفت. در این تحقیق اثر دو پارامتر فرآیند کشش سیم شامل نیم زاویه قالب و درصد کاهش سطح مقطع بر تغییرات فشار بین لایه‌ای با استفاده از شبیه سازی به کمک نرم افزار ANSYS 17 مورد بررسی قرار گرفته است. با مقایسه منحنی نیرو-جابجایی آزمون تجربی و مدلسازی انجام شده، صحت سنجی نتایج بررسی و مطلوب بود. طی تحقیق مشخص شد، با افزایش نسبت کاهش سطح مقطع، درصد افزایش فشار بین لایه‌ای بیشینه به مقدار نیم زاویه قالب بستگی دارد. به طوری که در نیم زاویه قالب 5 درجه افزایش نسبت کاهش سطح مقطع موجب افزایش فشار بین لایه‌ای بیشینه نمی‌شود. اما شدیدترین تاثیر تغییر نسبت کاهش سطح مقطع بر فشار بین لایه‌ای در نیم زاویه 45 درجه است. تغییرات این فشار با نیم زاویه قالب، به نسبت کاهش سطح مقطع بستگی دارد. به طوری‌که در نسبت کاهش سطح مقطع 6.2% فشار بین لایه‌ای بیشینه با افزایش نیم زاویه قالب از 5 تا 45 درجه، کاهش می‌یابد. در صورتی که فشار بین لایه‌ای در نسبت کاهش سطح مقطع 20% با افزایش نیم زاویه قالب افزایش می‌یابد.

واژه‌های کلیدی: مفتول دو‌ لایه آلومینیوم پوشیده با مس، کشش سیم، فشار بین لایه‌ای، روش اجزاء محدود، انسیس

متن کامل [PDF 1447 kb]   (6598 دریافت)